Chemische dampfase synthese van boornitride

In 1979 gebruikte Sokolowski met succes gepulseerde plasmatechnologie om kubisch boornitride (CBN) -films bij lage temperatuur en lage druk te maken. De gebruikte apparatuur is eenvoudig en het proces is gemakkelijk te realiseren, dus het is snel ontwikkeld. Er is een verscheidenheid aan opdampmethoden ontstaan. Traditioneel gesproken verwijst het voornamelijk naar thermische chemische dampafzetting. Het experimentele apparaat is doorgaans samengesteld uit een hittebestendige kwartsbuis en een verwarmingsapparaat. Het substraat kan worden verwarmd door een verwarmingsoven (warmwand-CVD) of hoogfrequente inductieverwarming (koudwand-CVD). Het reactiegas ontleedt op het oppervlak van het hogetemperatuursubstraat en tegelijkertijd vindt een chemische reactie plaats om een ​​film af te zetten. Het reactiegas is een gemengd gas van BCl₃ of B₂H₄en NH₃.